2018年1月30日，NI(美國國家儀器，National Instruments, 簡稱NI) 作為致力于為工程師和科學家提供基于平臺的系統解決方案來應對全球最嚴峻工程挑戰的供應商，宣布推出PXIe-4163高密度源測量單元(SMU)，該測量單元提供了比以往NI PXI SMU高達6倍的直流通道密度，適用于測試RF、MEMS以及混合信號和其他模擬半導體元件。
NI全球銷售和市場執行副總裁Eric Starkloff表示：“5G、物聯網和自動駕駛汽車等革命性的技術發展給半導體企業帶來持續的壓力。無論是實驗室環境還是生產車間，都需要采用更高效的半導體測試方法。半導體測試是NI的戰略重點。我們正在擴展我們的軟件平臺和PXI功能，以幫助芯片制造商應對他們面臨的最大挑戰，這一點通過NI最新的PXI SMU可以完全體現出來。”
由于其高吞吐量、高性價比和占地面積小，NI的半導體測試系統(STS)正在快速應用到芯片生產中。全新的PXIe-4163 SMU則進一步增強了這些功能，它能提供更高的直流通道密度，使多站點應用具有更高的并行性，以及在生產中提供實驗室級別的測量質量。利用這一組合，工程師在實驗室和生產車間中可以使用相同的儀器進行驗證，從而減少了測量數據關聯的挑戰，進而縮短上市時間。
工程師可以在STS配置或單獨的PXI系統中使用全新的PXIe-4163 SMU。 主要產品功能包括：
（1）在單個PXI Express插槽中提供多達24路通道
（2）每通道電壓范圍+/- 24 V
（3）每通道高達100 mA源極/漏極電流
（4）100 pA電流靈敏度
（5）高達100 kS/s采樣率和更新速率
（6）采用SourceAdapt技術，可最小化過沖和振動
（7）交互式配置和調試軟件
（8）在單個PXI機箱中提供高達408個高精度SMU通道(4U機架空間)
（9）受到STS全面支持，包括系統級布線、校準和引腳映射支持
STS于2014年推出，為半導體生產提供了顛覆性的測試方法。它基于NI PXI平臺，可以幫助工程師構建更智能的測試系統。PXI平臺包括1 GHz帶寬矢量信號收發儀 、fA級SMU 、TestStand業界領先的商用現成測試管理軟件以及頻率從DC涵蓋到mmWave的600多種PXI產品。
